Mit Hilfe des EUV (Extrem-Ultravioletten) - Lithographieverfahrens lassen sich Chips mit Strukturgrößen von nur wenigen Nanometern wirtschaftlich produzieren. Das Final Focus Metrology (FFM) als maßgebliche optische Kontrolleinheit im Produktionsprozess ist ein hochpräzises Messgerät, welches Laser in zwei unterschiedlichen Wellenlängenbereichen, nämlich in den Bereichen von 1 - 10 µm analysiert.
Mittels spezieller Highspeed-Positionssensoren und eigens entwickelter Wellenfrontsensoren werden performancekritische Prozessparameter des Hochenergielasers, sowie Formen und Positionen von Zinn-Tröpfchen in einer Hochvakuumkammer bestimmt, die deutlich kleiner sind als ein menschliches Haar (< 30µm). Anhand der Daten, die durch das FFM ermittelt werden, wird bei der Chipproduktion in der Lithographieanlage der entscheidende Regelkreis geschlossen und die Performance und Treffsicherheit eines Laserstrahls optimiert und so die Effizienz der Lichterzeugung und des gesamten Lithographiesystems entscheidend beeinflusst.
Mit der 1µm-Technologieentwicklung von Hensoldt kann die EUV-Lichtleistung auf ca. 400-600 W gesteigert werden.
