Artikelarchiv Galvanotechnik

Bericht über ein Seminar für Metall bearbeitende Betriebe am 4. November in Stuttgart

Workshop der Europäischen Forschungsgesellschaft Dünne Schichten e.V. (EFDS)

Einweihung einer neuen Laboranlage bei Innovent in Jena

Wissens-Update Feuerverzinken – Fakten statt Halbwahrheiten

Teil III: Wesentliche Einflussfaktoren für eine technisch umsetzbare Hartchromabscheidung aus Chrom(III)elektrolyten

In den letzten Jahren und Jahrzehnten wurde eine Vielzahl an Forschungsarbeiten und Untersuchungen zur Verchromung aus chrom(III)haltigen Elektrolyten durchgeführt. In einer mehrteiligen Serie möchten wir uns hier mit diesem Thema intensiv auseinandersetzen. Dazu wird im ersten Teil die Abscheidung von Chromschichten aus Chrom(III)elektrolyten und Chrom(VI)elektrolyten miteinander verglichen. Des Weiteren wurde eine Aufstellung der aktuell am Markt verfügbaren Chrom(III)elektrolyte und deren wichtigsten Kennwerte erstellt. Der zweite Teil der Abhandlung wird sich mit der galvanischen Verchromung aus chrom(III)haltigen Elektrolyten aus historischer Sicht beschäftigen. Die später folgenden Teile der Serie setzen sich dann mit theoretischen und praktischen Ansätzen der Chromabscheidung aus chrom(III)haltigen Elektrolyten auseinander.

Teil 2

Die galvanische Abscheidung von Metallen erfolgt normalerweise nicht flächig homogen, also Atomlage für Atomlage, wie es meist auch technisch erwünscht wäre, sondern lokal an einzelnen Zentren. Für eine Beschreibung müssen also geeignete Modelle für Keimbildung und Keimwachstum verwendet werden. In einem früheren Beitrag zur Oxidbildung wurden Teilaspekte bereits diskutiert, die hier erweitert werden sollen. Ein Keim ist hier ein kleiner Metallcluster, also eine Ansammlung von relativ wenigen Atomen. Da bei kleinen Keimen relativ viele Atome an der Oberfläche sitzen und damit eine hohe Energie haben, sind kleine Keime nicht stabil und werden sich auflösen. Erst bei einer bestimmten Größe (kritischer Keim) steht der Cluster im Gleichgewicht mit seiner Umgebung und kann gegebenenfalls wachsen. Im vorliegenden Beitrag sollen die Kinetik von Keimbildung und Keimwachstum mit möglichst einfachen Modellen und die daraus folgenden Möglichkeiten der experimentellen Überprüfung beschrieben werden.

This work presents the study of electrochemical phenomena that occur at the lead/sulphuric acid electrode interface. Atomic force microscopy (AFM) was used in this study. This was combined with electrochemical polarisation allowing the in-situ observation of the electrochemical corrosion reactions of metals in aggressive environments. The study observed, in AFM images, the oxidation/ reduction reactions of the lead electrode, starting with the passing phase of lead(II) ions in solution, followed by the crystallisation phase of lead sulphate and the reduction reaction. The main advantages of AFM use are: AFM provides a tri-dimensional profile of the surface; the probes analysed by AFM generally do not require special prior preparation; AFM operates ambient air or liquid; AFM provides a higher resolution.

Vor kurzem wurden wir mal wieder mit einer tragischen Meldung aufgeschreckt: Unser Vater Rhein, der wohl beeindruckendste deutsche Strom, von der deutschen Dichtung reichlich bedacht, ist ein ganzes Stück kürzer als bisher verkündet. An Stelle der 1320 misst er von der Quelle bis zur Mündung nur 1230 Kilometer.

Fachzeitschriften aus aller Welt... für Sie gesichtet!

Das in den USA ansässige Konsortium von Industriebetrieben der Elektronikindustrie iNEMI (International Electronics Manufacturing Initiative) hat am 1. März eine Stellungnahme zum CO2-Footprint veröffentlicht...

Wie freut sich der Ingenieur, wenn die unterschiedlichen Teile eines Systems normgerecht zueinander passen! Wie jubelt der Informatiker, wenn die verschiedenen Teile des Rechnersystems miteinander korrespondieren!

TITV-Konferenz in Greiz

Unternehmen miteinander zu vernetzen und mit anwendungsorientierten Forschungseinrichtungen ins Gespräch zu bringen – dem hat sich das Cluster Mikrosystemtechnik (MST) verschrieben. Mit diesem Ziel hat das unabhängige Kompetenznetzwerk am 24./25. Februar 2010 zum 2. Symposium für Mikrosystemtechnik eingeladen: Zwei Tage lang bildete die Hochschule Landshut das Zentrum der Mikrosystemtechnik.