Silicon Valley Patriarch Gordon Moore ist tot

Silicon Valley Patriarch Gordon Moore ist tot

Der bekannte Halbleitertechnologe und Industriepionier Gordon Moore starb am 24.3.2023, zurückgezogen an seinem Alterssitz auf der Pazifikinsel Hawaii. Er widmete sich seiner Stiftung mit karitativen Zwecken. In seinen letzten Jahren hielt er sich fern vom nordkalifornischen Silicon Valley, dessen modellhaft dynamische, meritokratisch denkende doch strikt egalitäre Hightech-Kultur er als einer der ersten Chip-Entrepreneure mit etabliert hat.

Moore wurde 94 Jahre alt. Die meisten seiner Weggefährten und Wettbewerber der ersten Stunde sind längst dahingegangen. Seine Grundsätze und Visionen aber stoßen nach wie vor auf ein weltweites Medienecho und stimulieren die Halbleiterindustrie weiter zu technologischen und ökonomischen Höhenflügen.

Seine Glanzzeit hatte er bei Intel, dem von ihm und seinem Kollegen Robert Noyce 1968 in Santa Clara mit 2,3 Mio. $ Startkapitel gegründeten Unternehmen. Dessen Chairman und CEO war er von 1979 bis 1987. Intel brillierte Anfang der Siebziger Jahre mit einem kompletten Mikroprozessor auf einem Chip, dem heute legendären 8008. Der begründete über lange Jahre Intels Position als führender Hersteller des Weltmarkts.

Mit Moore endet eine Ära von geradezu mythischen Proportionen. Seine Leistungen und Errungenschaften hat er vor mehr als 50 Jahren erbracht. Als promovierter Chemiker vom Caltech in Pasadena heuerte er 1956 bei einem winzigen Outfit an, das sich die Entwicklung der Siliziumtechnologie zur Halbleiterfertigung als Ziel gesetzt hatte: bei den Shockley Labs des legendären Transistor-Miterfinders und Nobelpreisträgers William Shockley in Mountain View.

Das ging nicht lange gut: Shockley war trotz seiner akademischen Verdienste ein erratischer und politisch kontroverser Kopf. Nach nur einem Jahr hatten acht seiner hoch dotierten Experten die Nase voll. Unter ihnen waren Gordon Moore, Robert Noyce und Andy Grove. Sie suchten sich, von Shockley als ‚Traitorous Eight‘ denunziert, einen mehr kommoden Arbeitgeber, der ihren Ideen einer integrierten Mikroelektronik auf Siliziumbasis aufgeschlossener gegenüberstand. Sie fanden ihn in Sherman Fairchild, dessen Ostküsten-Unternehmen Fairchild Camera and Instrument sich mit Luftfahrtausrüstungen befasste.

Mit Moore endet eine Ära von geradezu mythischen Proportionen.

Mit der von ihnen 1957 in Palo Alto gegründeten Firma Fairchild Semiconductor beginnt das Narrativ des im Gegensatz zur etablierten Großindustrie geradezu revolutionär agierenden, typisch kalifornischen Business-Mentalität: mit raschem, prognostizierbarem Technologiefortschritt im Jahrestakt und kontinuierlicher Innovation mit einer neuartigen Mikroelektronik. Schnelle Ausgründungen von Fairchild-Managern und Ingenieuren mit aussichtsreichen Produktideen wurden zum Markenzeichen der jungen und dynamischen Chipindustrie. Zumal es mit der vom US-Präsidenten Kennedy initiierten Hightech- und Raumfahrt-Euphorie keinen Mangel an einfach akquirierbarem Startkapital gab.

Bei Fairchild trieben Noyce, Grove und Moore die Entwicklung der integrierten Silizium-Mikroelektronik für Speicherbausteine der MOS-Schaltungsvariante energisch voran. Möglichst viele Transistoren und andere Schaltelemente sollten auf einer möglichst kleinen Chipfläche Platz finden - mit möglichst kleinen Strukturdimensionen. Damals waren es einige zehn Mikrometer, heute wenige Nanometer. Moore befasste sich mit dem Diffusionsprozess, also der Realisierung geeigneter Dotierungsprofile in der Chip-Oberfläche zur Einstellung der Leitfähigkeit für positive oder negative Ladungsträger.

Sein Opus Magnum, das ‚Mooresche Gesetz‘, entwickelte er 1965 bei Fairchild in Form eines Beitrags für das Fachmagazin ‚Electronics‘. Grundgedanke war die für Consumer-Anwendungen geforderte Verbilligung der Speicherbausteine durch kontinuierliche Miniaturisierung um 30 % pro Bit und pro Jahr. Zunächst sollte das über zehn Jahre gelten. Später revidierte Moore die Zeitspanne für die damit einher gehende Verdoppelung der Transistorzahl pro Chip auf zwei Jahre. Daraus resultiert die bis heute geltende Chip-Skalierung bis herab auf Nano-Dimensionen - wenn auch mit Abstrichen hinsichtlich der Fertigungskosten und durch vertikale Stapelung.

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