Die Eindhoven University of Technology (TU/e) hat eine neue Maschine für „Spatial Atomic Layer Deposition“ (SALD) des Start-ups SALD BV in Betrieb genommen. Das Verfahren eignet sich zum schnellen Auftragen von atomaren Beschichtungen in mehreren Lagen auf ein Substrat, um neue Materialeigenschaften zu erreichen. Schwerpunkt der Fu & E-Arbeiten sollen bei der Atomic-Scale-Verarbeitung für Energie- und Informationstechnologien wie Photovoltaik und Nanoelektronik liegen.
Bei der SALD-Maschine handelt es sich um ein für Forschung und Entwicklung optimiertes System, das leicht angepasst werden kann, um den Einfluss unterschiedlicher Faktoren auf den Prozess der „Spatial Atomic Layer Deposition“ zu untersuchen. Ein entscheidender Vorteil von SALD im Vergleich zum herkömmlichen ALD-Verfahren besteht in der höheren Geschwindigkeit. Bei Spatial ALD werden die Atomschichten viel schneller erzeugt, indem das Substrat durch verschiedene Zonen des Reaktors sozusagen geflogen wird, wobei jede Zone unterschiedliche Gase oder Reaktanten enthält. Das „Fliegen“ des Substrats ermöglicht eine schnellere Schichtabscheidung bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung der Genauigkeit. Der Geschwindigkeitsvorteil ist vor allem für den industriellen Einsatz von Bedeutung.
